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我们研究了FTD浮力提拉原理，对多台FTD作了分析对比，由此找出了提拉不均匀性产生的根源，明确了FTD提拉机构的设计要领。希望这-一卜作能够推动FTD的发展.并有助于单晶的生长研究和生产。二，FTD浮力提拉原理，提拉不均性的产生习C^l 奋幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。
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绘制原则：1，绘制电器元件布置图时，机床的轮廓线用细实线或点划线表示，电器元件均用粗实线绘制出简单的外形轮廓。2，绘制电器元件布置图时，电动机要和被拖动的机械装置画在一起，行程关应画在获取信息的地方，作手柄应画在便于作的地方。单晶硅片由此进入生产流程：1、酸洗：使用稀HNO3,进行清洗，去除表面杂质及时产生的四硅。2、清洗：清洗硅料经过酸洗后的残留杂质。3、单晶硅料烘干：去除水分。4、挑料：区分P型，N型硅料。5、配料：对拉晶的硅料型号进行匹配。6、单晶炉拉晶：7、硅棒检测：检查有无位错，棱线断等现象。8、断：将单晶硅棒用带锯条切割成四方体。9、包装：将断后的单晶硅棒进行包装，送下一道工序10、磨圆：将单晶硅棒四个直角进行磨圆。11、多线切割：瑞士的264，265。日本的PV800,MDM442DM设备进行切割0.33mm。12、清洗：13、单晶硅片检测：单晶炉的结构单晶炉炉体（包括板、主炉室、炉盖、隔离阀室、副炉室、籽晶提升旋转机构和坩埚提升旋转机构）由304L不锈钢。
